释义 |
离子束溅射 Encyclopedia
工学半导体薄膜制备释 ion beam sputtering离子束溅射 利用离子源产生一定能量的离子束以一定角度对高真空淀积室内的靶材进行轰击,使其原子溅射出来,落在镀件表面形成薄膜的物理气相淀积技术。 工学溅射工艺释 ion beam sputtering离子束溅射 利用离子源产生一定能量的离子束轰击置于高真空中的靶材,使其原子溅射出来,沉积在基底成膜的技术。 工学激光加工释 ion beam sputtering离子束溅射 在真空环境中,利用从离子源引出的高能离子束对材料表面进行轰击,使材料的原子或分子从表面溅射出来的技术。
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