| 释义 |
chemical vapor deposition
Encyclopedia
工学化学气相沉积释
chemical vapor deposition化学气相沉积
利用高温、高频电场或同时使用两者的方法来裂解离化参与反应的气体，重新组合成特定成分的光学薄膜。
工学化学气相沉积释
chemical vapor deposition化学气相沉积
通过活化环境（热、光或等离子体）中使含有构成薄膜元素的挥发性化合物分解或与其他气相物质的化学反应产生非挥发性的固体物质并使之以原子态沉积在置于适当位置的衬底上，从而形成所要求材料的技术。简称CVD。
工学[表面涂层制备技术]释
chemical vapor deposition; CVD化学气相沉积
利用加热、等离子体激励或者光辐照等各种能量源在反应器内使气态或者蒸汽状态的化学物质在气相或者气-固界面上经过化学反应形成固态沉积物的方法。
理学晶体生长技术释
chemical vapor deposition化学气相沉积法
一种常见的制备单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料的气相生长方法。
理学化学气相沉积释
chemical vapor deposition化学气相沉积
气态（蒸气）物质在热固表面（称为衬底或基体）上发生分解反应，形成一层固态沉积物的过程。
Physics
Chemistry
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