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self alignment double exposure technology
释义
self alignment double exposure technology
Encyclopedia
工学
光刻技术
释
self alignment double exposure technology
自对准双重曝光技术
集成电路制造中,在光刻环节对光刻胶覆盖的晶片分别进行两次曝光的技术。
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更新时间:2025/7/2 8:19:51