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plasma polishing
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plasma polishing
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工学
等离子体抛光
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plasma polishing
等离子体抛光
等离子体抛光是常压下利用高频激励产生活性物质,与基底材料发生化学反应,高速去除硅基材料的抛光方法。
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更新时间:2025/4/25 23:01:41