“plasma enhanced chemical vapor deposition”的概念、定义、翻译、参考文献-科学参考

plasma enhanced chemical vapor deposition

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工学化学气相淀积工艺释
plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD等离子体增强化学气相沉积
利用各种等离子体的能量促使反应气体离解、活化以增强化学反应的化学气相沉积。
理学气体放电释
plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD等离子体增强化学气相沉积
利用气体放电产生的等离子体作用使参加反应的低分子气态化合物电离、离解或激发，通过气相与界面化学反应后在衬底上沉积薄膜的制备方法。由于该过程伴随着化学反应，因此称为等离子体增强（或辅助）化学气相沉积。

单词	plasma enhanced chemical vapor deposition
释义	plasma enhanced chemical vapor deposition Encyclopedia 工学化学气相淀积工艺释 plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD等离子体增强化学气相沉积利用各种等离子体的能量促使反应气体离解、活化以增强化学反应的化学气相沉积。理学气体放电释 plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD等离子体增强化学气相沉积利用气体放电产生的等离子体作用使参加反应的低分子气态化合物电离、离解或激发，通过气相与界面化学反应后在衬底上沉积薄膜的制备方法。由于该过程伴随着化学反应，因此称为等离子体增强（或辅助）化学气相沉积。
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