释义 |
physical vapor deposition Encyclopedia
工学物理气相沉积释 physical vapor deposition物理气相沉积 在真空条件下,采用物理方法使固体或液体材料源气化成原子、分子或部分电离成离子,通过气相过程在衬底上沉积一层具有某种特殊功能的薄膜技术。 工学表面技术释 physical vapor deposition 物理气相沉积 在真空条件下,利用蒸发或溅射等物理方法将材料气化成原子、分子或电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程在基体上沉积一层具有特殊功能薄膜的技术。简称PVD。 理学晶体生长技术释 physical vapor deposition物理气相沉积 一种晶体、薄膜的生长方法。
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