| 释义 |
photoresist
Encyclopedia
工学光致抗蚀剂释
photoresist光致抗蚀剂
在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料，由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的对光敏感的混合液体。又称光刻胶。是一种感光性高分子记录材料。
工学光敏型高分子释
photoresist光致抗蚀剂
通过光照或者射线辐射，其溶解性、熔融性、黏附性会发生显著变化的耐蚀薄膜材料。又称光刻胶。
工学半导体集成电路用化学品释
photoresist光刻胶
微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
工学光刻胶释
photoresist光刻胶
由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。又称光阻胶、光致抗蚀剂。
理学光释
photoresist光致抗蚀剂
一种感光材料。光照后光致抗蚀剂涂层中发生化学变化，能改变其对显影剂抗蚀能力的高分子化合物。又称光刻胶。常用于集成电路产业、微纳加工、全息光学中。
Physics
Chemistry
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