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lithography illumination system
释义
lithography illumination system
Encyclopedia
工学
光刻机照明系统
释
lithography illumination system
光刻机照明系统
为投影物镜成像提供特定光线角谱和强度分布的照明光场。它是复杂的非成像光学系统,介于曝光光源和投影物镜之间。
随便看
skewing
skew invariant
skew lattice
skew lines
skew matrix
skew metric space
skewness
skewness coefficient
skewness kurtosis all normality test
skewness-kurtosis all normality test
skewness of a distribution
skewness test
skew partition
skew perspective affinity
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skew polyhedron
skew polynomial
skew polynomial ring
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skew position
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skew product transformation
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更新时间:2025/12/13 13:21:26