“focused ion beam lithography”的概念、定义、翻译、参考文献-科学参考

单词	focused ion beam lithography
释义	focused ion beam lithography Encyclopedia 工学磁致动器释 focused ion beam lithography聚焦离子束光刻在聚焦离子束技术基础上将原子离化后形成离子束的能量控制在10～200千电子伏特，在工件表面采用直接扫描、掩模曝光或者投影曝光加工微细线条图案，制备微纳器件的工艺。
随便看	cedrol CEEAC CE-EC CEEC CE-ECL CEF cefovecin cefquinome CEFR ceftiofur CEH Ceheng Xian C. E. Hille C. E. Hille (1894—1980) C. Ehresmann C. Ehresmann (1905—1979) CEI ceiling ceiling effect theory ceiling function ceiling jet Ceiling Light ceiling light ceiling temperature of polymerization ceilometer

科学参考收录了854744条科技类词条，基本涵盖了常见科技类参考文献及英语词汇的翻译，是科学学习和研究的有利工具。